Описание

Печи серии RTP предназначены для проведения процессов в вакууме и в среде инертного газа.

Данные печи предназначены для высокотемпературной обработки полупроводниковых пластин и подложек диаметром 150 мм и могут применяться для различных процессов в условиях как лабораторного, так и мелкосерийного производства. Загрузка подложек в рабочую камеру печей линейки RTP производится вручную. Печи легко управляемы и просты в техобслуживании. Две программируемые газовые линии с расходомерами могут использовать два различных газа, при подключении вакуумной помпы процесс оплавления можно проводить в вакууме. Основной особенностью печей является возможность  быстрого нагрева (охлаждения)до 75ºС в сек и точный контроль температуры.

Отличительные особенности:

• Быстрый нагрев (охлаждение)
• Точный контроль температуры
• До 4 линий подачи газа с регуляторами расхода
• Мониторинг и чтение данных процесса
• Нагрев с помощью инфракрасных ламп
• Регулятор массового расхода азота (5 литров в минуту)
• Возможность создания в камере вакуума до 10-3мбар 
• Температура нагрева до 1000°C 
• Сенсорный экран 7" 
• Программируемые профили температуры
• Работа в атмосфере инертных газов, кислорода, водорода, форминг газа

Области применения:

• Имплантация/ отжиг за счёт контактного нагрева
• Быстрые термические процессы
• Легирование SiAu, SiAl, SiMo
• Работа с диэлектриками с пониженной диэлектрической проницаемостью
• Кристаллизация и уплотнение поверхности
• Разработка прототипов
• Контроль качества
• Обжиг медной и резистивной пасты

Опции:

• Дополнительная линия подачи газа с регулятором массового расхода (максимум 3 единицы)
• Анализатор влажности для измерения остаточной влажности в камере 
• Анализатор кислорода для измерения кислорода оставшегося в камере (не может быть установлена вместе с опцией водорода)
• Дополнительная термопара (максимум 2 единицы)
• Вакуумная система до 3 мбар, состоит из датчика и предохранительного клапана, помпа в комплект не входит
• Вакуумная система до 10-3 мбар, состоит из датчика и предохранительного клапана, помпа в комплект не входит
• Соединительные трубки из VCR
• Настольная модель с электрическим шкафом и встроенным универсальным теплообменником (UHE)
• Дополнительная камера 100 мм с  возможностью одновременного использования 2 камер
• Графитная плита или токоприемник (опционально покрытие карбидом кремния)
• Мембранная помпа для вакуума до 3 мбар
• Вращающаяся лопастная помпа для вакуума до 10-3 мбар с масляным фильтром
• Модуль водорода: позволяет использовать 100% водород, состоит из линии подачи газа и регулятора массового расхода 
• Предохранительный механизм для предотвращения бесконтрольного  выделения водорода
• Замкнутая водная система охлаждения
• Адаптер для пластин диаметром 50 мм
• Адаптер для пластин диаметром 75 мм

Технические характеристики

• Макс. размер пластин 150 x 150 мм
• Материал камеры Кварцевое стекло
• Высота камеры 40 мм
• Система загрузки подложек Фронтальная загрузка, поддон из кварцевого стекла
• Макс. давление вакуума До 10-3 милибар
• Размеры рабочей камеры 325х214х40 мм
• Макс. Температура 1000 ºС
• Нагрев 24 ИК лампы (42 кВт)
• Зоны нагрева Верхняя и нижняя (программируемые)
• Скорость нагрева  До 75 К/сек
• Скорость охлаждения с 1200ºС до 400ºС: 200К/мин, с 400ºС до 100ºС: 30К/мин
• Подача газа 1 газовая линия (опционально до 4)
• Используемые газы Азот, кислород, N2H2, аргон
• Давление газов 2-6 бар, макс. расход 10 л/мин
• Метод охлаждения Вода: 2л/мин., 2-6 бар
• Эл. питание 3х32 А, 230 В, 3 фазы
• Габаритные размеры 503 x 525x 570  мм
• Вес 55 кг